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流动气氛加热台
流动气氛加热台英文hot plate又称烤胶机、烘胶机、热板. 600度流动气氛高温精密恒温加热台，可充氮气及其他惰性气体控温范围为室温至600度（可按需求订制不同规格、温度）
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程控触屏匀胶机
程控触屏匀胶机英文SPIN COATE 或者SPIN PROCESSOR ,又称甩胶机，匀胶台，旋转涂膜仪，旋涂仪。广泛应用于微电子、半导体、新能源、化工材料、生物材料、光学，硅片、载玻片，晶片，基片...
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台式匀胶机
加热台英文hot plate又称烤胶机、烘胶机、热板. JW-700DG型加热台，控温范围为室温至700度
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程控匀胶机
程控匀胶机英文SPIN COATE 或者SPIN PROCESSOR ,又称甩胶机，匀胶台，旋转涂膜仪，旋涂仪。广泛应用于微电子、半导体、新能源、化工材料、生物材料、光学，硅片、载玻片，晶片，基片，I...
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高温加热台
高温加热台英文hot plate又称烤胶机、烘胶机、热板. JW-230ZK型加热台，可抽真空，充氮气及其他惰性气体控温范围为室温至230度（可按需求订制不同规格、温度）
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数控加热台
数控加热台英文hot plate又称烤胶机、烘胶机、热板. JW-700DG型加热台，控温范围为室温至700度
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恒温顶升功能加热台
恒温顶升功能加热台 英文hot plate又称烤胶机、烘胶机、热板. 智能半导体烤胶机恒温顶升功能加热台是一款高性能烤胶设备，加热阶段可视，程序化控制，可存储6组程序配方，每组可设30个加热段。
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高温精密恒温加热台
高温精密恒温加热台加热面板 均匀性好，温控精度高，不易变形，耐腐蚀，同时具有升温迅速，程序段控温，控温精准等优点。
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精密加热台
精密加热台适用于半导体硅片，载玻片，晶片，基片，ITO导电玻璃等工艺的，制版的表面涂覆后，薄膜烘干，固化。
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230度抽真空充氮气高温精密恒温加热台
230度抽真空充氮气高温精密恒温加热台 英文hot plate又称烤胶机、烘胶机、热板. JW-230ZK型加热台，可抽真空，充氮气及其他惰性气体控温范围为室温至230度（可按需求订制不同规格、温度）
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高精密程控触屏匀胶机旋涂仪
高精密程控触屏匀胶机旋涂仪JW-A5英文SPIN COATE 或者SPIN PROCESSOR ,又称甩胶机，匀胶台，旋转涂膜仪，旋涂仪。广泛应用于微电子、半导体、新能源、化工材料、生物材料、光学，硅...
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700度精密恒温高温加热台数控型烤胶机
700度精密恒温高温加热台数控型烤胶机英文hot plate又称烤胶机、烘胶机、热板. JW-700DG型加热台，控温范围为室温至700度
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